中國材料大會丨鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司
會議時(shí)間:2024年7月8-11日
會議地點(diǎn):廣州白云國際會議中心
主辦單位:中國材料研究學(xué)會
“中國材料大會”是中國材料研究學(xué)會的學(xué)術(shù)年會,是重要的系列品牌會議之一,是中國新材料界學(xué)術(shù)水平最高、涉及領(lǐng)域最廣、前沿動態(tài)最新的超萬人學(xué)術(shù)大會,是面向國家重大需求、推動新材料前沿重大突破的高水平品牌大會。
為推動經(jīng)濟(jì)社會高質(zhì)量發(fā)展,加快建設(shè)科技強(qiáng)國,實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng),擬于2024年7月8-11日在廣東省廣州市舉辦中國材料大會2024,同期召開第二屆世界材料大會。會議涵蓋能源材料、環(huán)境材料、先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料、功能材料、材料設(shè)計(jì)制備與評價(jià)等5大類主題;同時(shí)開設(shè)一批特色論壇,包括青年論壇、特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等。除此之外,還同期舉行國際新材料科研儀器與設(shè)備展覽會等。
“中國材料大會2024”展位號:2F62
HFCVD熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備
該設(shè)備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發(fā)和生產(chǎn)??捎糜诹W(xué)級別、熱學(xué)級別、光學(xué)級別、聲學(xué)級別的金剛石產(chǎn)品的研發(fā)生產(chǎn)。
可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片,用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用于生產(chǎn)制造防腐耐磨硬質(zhì)涂層;環(huán)保領(lǐng)域污水處理用的金剛石產(chǎn)品。
可用于平面工件的金剛石薄膜制備,也可用于刀具表面或其它不規(guī)則表面的金剛石硬質(zhì)涂層制備。
可用于太陽能薄膜電池的研發(fā)與生產(chǎn)。
高真空磁控濺射儀
是用磁控濺射的方法,制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等;適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜系及合金膜;可鍍制磁性材料和非磁性材料。
分子束外延薄膜生長設(shè)備MBE
分子束外延薄膜生長設(shè)備MBE,該設(shè)備可以在某些襯底上實(shí)現(xiàn)外延生長工藝,實(shí)現(xiàn)分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等??梢赃M(jìn)行第二代半導(dǎo)體和第三代半導(dǎo)體的工藝驗(yàn)證和外延片的生長制造。
分子束外延薄膜生長設(shè)備在薄膜外延生長時(shí)具有超高的真空環(huán)境,是在理想的環(huán)境下進(jìn)行薄膜外延生長,它可以排除在薄膜生長時(shí)的各種干擾因素,得到理想的高精度薄膜。
我公司設(shè)計(jì)制造的分子束外延薄膜生長設(shè)備,分實(shí)驗(yàn)型和生產(chǎn)型兩種 ,配置合理,結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,技術(shù)先進(jìn),性能可靠,用途多,實(shí)用性強(qiáng),價(jià)格相對較低,可供各大學(xué)的實(shí)驗(yàn)室及科研機(jī)構(gòu)作為分子束外延方面的教學(xué)實(shí)驗(yàn)、科學(xué)研究及工藝實(shí)驗(yàn)之用。生產(chǎn)型MBE可用于小批量外延片的制備。
PECVD 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備
PECVD 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備主要用于在潔凈真空環(huán)境下進(jìn)行氮化硅和氧化硅的薄膜生長;采用單頻或雙頻等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),是沉積高質(zhì)量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設(shè)備。
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