產品分類
生產型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機
生產型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機（?PVD-1000S系列 ）?該設備廣泛應用于銑刀、鉆頭、軸承、齒輪、鏡片等表面的硬質耐磨涂層制備，集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設備。
- 產品描述
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生產型 高真空磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機（PVD-1000S系列）該設備廣泛應用于銑刀、鉆頭、軸承、齒輪、鏡片等表面的硬質耐磨涂層制備，集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設備。
可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。
設備結構及性能參數
設備由PVD鍍膜室、集成封閉機柜、分子泵+旋片泵真空機組、真空測量系統(tǒng)、工藝氣路系統(tǒng)、磁控濺射靶、直線型離子源、工件架、靶擋板、工件旋轉機構、脈沖直流電源、高能量脈沖電源、中頻電源、射頻電源、偏壓電源、離子輔助鍍膜電源及控制系統(tǒng)、檢測及報警保護系統(tǒng)、水冷管路系統(tǒng)、循環(huán)制冷恒溫水箱、計算機+PLC 兩級控制系統(tǒng)組成。
- 整機外形尺寸：2500mm X 2500mm X 2000mm。也可根據用戶產能規(guī)模定制尺寸。
- 磁控濺射靶為矩形，靶面尺寸80mm X 300mm，沿真空室壁的圓周排列，可以隨時在線調整靶面與樣片的距離，靶頭伸縮距離150mm。也可根據工件尺寸調整靶面尺寸。
- 直線型離子源沿真空室壁的圓周排列，數量兩組，工作氣壓0.1-0.3Pa，能量200-5000eV可調，束流強度0.2-1A。
- 工件架為圓筒形結構行星式分布，工件沿圓周排列，每個工位工件既自轉又公轉。樣品裝載數量大；旋轉運動運行平穩(wěn)，無抖動；密封可靠。
- 工件可加偏壓。
- 加熱系統(tǒng)采用紅外加熱器，對真空環(huán)境無污染，加熱均勻；具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。工件最高可加熱至500攝氏度。
設備重點性能參數極限真空度 7×10-5Pa 工作背景真空度 8×10-4Pa 工作背景真空到達時間 ＜30min（空氣濕度低于45％；開門時間＜30min條件下從大氣抽到工作真空度時間) 保壓 關機12小時保壓＜10Pa 濺射室外形尺寸 直徑 875mm × 高度 1000mm 整機尺寸 長 2500mm × 寬 2500mm × 高 2000mm 樣品加熱溫度 室溫~500℃ 樣品架公轉速度 0；3~12r/min連續(xù)可調 片內膜層均勻性 ?。?% 片間膜層均勻性 ?。?% 磁控靶數量 4靶（可根據用戶工藝擴展靶位） 直線型離子源 2靶 磁控靶規(guī)格 80mm × 300mm 靶材規(guī)格 80mm × 100mm × 8mm
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