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MOCVD 金屬有機化學(xué)氣相沉積設(shè)備

服務(wù)支持：

  • 產(chǎn)品描述

  • MOCVD 金屬有機化學(xué)氣相沉積設(shè)備

    可用于GaN、ZnO等的外延生長。
    材料的輸運采取了超純的氣路系統(tǒng)，源的切換和輸入采用了多路組合閥進氣技術(shù)。由于組合閥具有極小的死空間，使得源的殘留量非常少，有利于生長具有陡峭界面的材料。

    采用壓差控制技術(shù)控制組合閥的旁路和主路之間的壓力，大大降低了源的壓力和濃度波動，有利于材料生長的重復(fù)性和穩(wěn)定性。

    采用了管道鑲嵌式進氣噴頭，使反應(yīng)源在襯底表面均勻混合并反應(yīng)，大大降低了預(yù)反應(yīng)的發(fā)生。

    采用電阻式快速升降溫加熱爐。

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