碳化硅
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真空高溫CVD 爐采用高溫化學(xué)氣相沉積的方法，在工件表面沉積各種薄膜，在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛，包括沉積大面積的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料，例如：碳化鉭涂層、碳化硅涂層材料。
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